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名字

张磊

研究员
技术部负责人
电子信箱:lzhang@imr.ac.cn
办公电话:23971551
办公地点:李薰楼339房间
简历介绍

张磊博士,研究员。2001毕业于中国科学院金属研究所, 2002年以马普学者身份赴德国马普金属研究所,从事超高真空环境中表面结构分析与同步辐射X射线原位分析的技术研发,系统掌握了X射线掠入射衍射(GIXRD)研究高温下表面结构演化的实验技术与分析方法。2004年就职于沈阳材料科学国家实验室,开展微电子高密度互连封装材料工艺与结构性能分析研究。2008年任沈阳材料科学国家实验室公共技术服务部负责人,2018年任沈阳材料科学国家研究中心技术支撑部负责人。致力于材料微结构分析与性能测试共性技术平台的运行管理与建设发展。


从事纳米多层材料、表界面材料、微电子材料的微结构分析与性能测试研究工作。目前以三维材料科学与技术为方向,开展材料结构与缺陷多尺度表征与性能测试的实验技术研究。负责国家自然科学基金,承担完成973计划,863计划、国家科技支撑计划子项目任务以及合作项目共7项。主要研究成果包括利用高温原位X射线衍射技术国际上首次发现纳米薄膜的过热,提出薄膜过热理论与实现条件;发展新型无铅微电子钎焊材料,建立溶差增润理论,实现钎料反应润湿调控技术和方法。发表包括Physical Review letters, Acta Materialia等期刊论文40余篇,授权专利8项,EUROMAT和 MRS分会特邀报告人,国际国内会议口头报告20余次,担任TMS-3DMS国际会议组委会成员,中国二次离子质谱学会议委员。

代表性论文
L. Zhang*, C. Dai, J. Zhang, 3D ToF-SIMS view of interfacial diffusion between Cr2AlC coating and zircaloy substrate. Surface and Interface Analysis, 2019, 52(12) DOI: 10.1002/sia.6715.
L. Zhang*, S. Wang, Correlation of Materials Property and Performance with Internal Structures Evolvement Revealed by Laboratory X-ray Tomography. Materials, 2018, 11(10): 1795.
王绍钢,王苏程,张磊*,高分辨透射X射线三维成像在材料科学中的应用,金属学报, 49卷,8期, 897-910页, 2013年8月
Q. Q. Lai, L. Zhang*, N. Eustathopoulos: Enhanced wetting of dual-phase metallic solids by liquid metals: A new effect of interfacial reaction. Acta Materialia 01/2013; 61:4127.
P.J. Shang, L. Zhang*, Z.Q. Liu, J. Tan, J.K. Shang: Ex situ observations of fast intermetallic growth on the surface of interfacial region between eutectic SnBi solder and Cu substrate during solid-state aging process. Microelectronics Reliability 01/2013; 53:899.
Q. Q. Lai, Lei Zhang*, Cai Chen, J. K. Shang: Tunable Reactive Wetting of Sn on Microporous Cu Layer. Journal of Materials Science and Technology -Shenyang- 01/2012; 28:379-384.
C. Chen, L. Zhang*, J. X. Zhao, L. H. Cao, J. K. Shang: Gap Size Effects on the Shear Strength of Sn/Cu and Sn/FeNi Solder Joints. Journal of Electronic Materials 01/2012; 41(9):2487-2494.
Cai Chen, Lei Zhang*, Qingquan Lai, Caifu Li, J. K. Shang: Evolution of solder wettability with growth of interfacial compounds on tinned FeNi plating. Journal of Materials Science Materials in Electronics 01/2011; 22(9):1234-1238.
L. Zhang*, L. H. Zhang, M. L. Sui, J. Tan, K. Lu: Superheating and melting kinetics of confined thin films. Acta Materialia 08/2006; 54(13):3553-3560. ?
L. W. Wang, L. Zhang*, K Lu: Vacancy-decomposition-induced lattice instability and its correlation with the kinetic stability limit of crystals. Philosophical Magazine Letters 04/2005; 85:213-219. ?
L. Zhang*, Z. H. Jin, L. H. Zhang, M. L. Sui, K. Lu: Superheating of confined Pb thin films. Physical Review Letters 09/2000; 85(7):1484-7.